本案發明係藉由於形成抗蝕膜的步驟與曝光步驟之間設置對抗蝕膜導入金屬的步

本案發明係藉由於形成抗蝕膜的步驟與曝光步驟之間設置對抗蝕膜導入金屬的步驟，可形成高對比之抗蝕膜。引證1雖揭示有導入金屬的步驟，但並未具體揭示該步驟係於形成抗蝕膜的步驟與曝光步驟之間設置，且完全未考量到形成高對比之抗蝕膜，對於本案發明藉由於抗蝕劑材料中導入氟原子、氯原子或溴原子，可使所形成之抗蝕膜成為更高對比之相關事項，於引證1中當然不會有任何記載或教示。

結果 (日文) 1:

本発明によれば、レジスト膜の形成工程と露光工程との間に、レジスト膜に金属を導入する工程を設けることにより、コントラストの高いレジスト膜を形成することができる。引用文献１には、金属を導入する工程が開示されているが、この工程がレジスト膜の形成工程と露光工程との間に設けられることは特に開示されておらず、高コントラストなレジスト膜の形成については全く考慮されていない。本発明においては、レジスト材料中にフッ素原子、塩素原子、臭素原子を導入することにより、形成されるレジスト膜のコントラストをより高くすることができるが、当然のことながら、引用文献１には何の記載も指示もない。

結果 (日文) 2:

本発明は、レジスト膜を形成する工程と露光工程との間にレジスト膜に対して金属を導入する工程を設けることにより、高コントラストのレジスト膜を形成することができる。引証1には金属を導入する工程が開示されているが、この工程はレジスト膜を形成する工程と露光工程の間に設けられており、高コントラストのレジスト膜を形成することは特に開示されておらず、本件発明については、レジスト材料にフッ素原子、塩素原子、または臭素原子を導入することにより、形成されたレジスト膜をより高コントラストの関連事項にすることができ、引証1に記載や教示はもちろんない。

結果 (日文) 3:

本件発明系薯は、レジスト膜を形成する工程と露光工程との間に、レジスト膜に金属を導入する工程を設けることにより、コントラストの高いレジスト膜を形成することができる。 引用1には金属を導入する工程が示されているが、この工程がレジスト膜を形成する工程と露光する工程との間に設けられることは具体的には示されておらず、また、コントラストの高いレジスト膜を形成することについては全く考慮されていないが、本件発明薮については、レジスト材料中にフッ素原子、塩素原子または臭素原子を導入することにより、形成されるレジスト膜をよりコントラストの高いものにすることができることは、引用1にはもちろん記載も教示もされていない。