於目鏡下使用X軸移動平台上待測物後調整目鏡「十字基準線」於晶片邊緣左側

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結果 (英文) 1: [復制]

復制成功！

Use the X axis under the eyepiece to move the object to be measured on the platform and adjust the eyepiece "cross reference line" to the left side of the chip edge

正在翻譯中..

結果 (英文) 2:[復制]

復制成功！

Adjust the eyepiece "Cross Baseline" to the left of the edge of the chip after using the object to be measured on the X-axis mobile platform under the eyepiece

正在翻譯中..

結果 (英文) 3:[復制]

復制成功！

After moving the object on the platform with X-axis under the eyepiece, adjust the "cross reference line" of the eyepiece to the left side of the wafer edge<br>

正在翻譯中..

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